用語解説

ガスクラスターイオンビーム(Gas Cluster Ion Beam ; GCIB)とは、数百から数千の原子の塊(クラスター)をイオン化して照射するプロセスです。クラスターイオンを照射(衝突)することによって、極表面にのみ高温高圧のエネルギーを付与できます。イオンビームでは基材深くまでイオンが侵入して損傷を与えていましたが、GCIBでは損傷を表面付近に限定できるので、エッチング後の表面の平坦化が可能となります。