Before (改善前)

パワー半導体（青色発光ダイオード）として注目されるGaN（窒化ガリウム）結晶というものがあります。このGaN結晶を生成させる反応容器の内面及び配管の内面において、耐食性及び耐熱性被膜が求められることが多くなっています。
一般的な反応容器の内面には、Pｔ（白金）箔を被覆させることが多く、施工の難易度が高く且つ費用がかかる要因となっていました。また、Ｐｔ（白金）の被覆を厚くすることによって欠陥の無い表面に仕上げたいが、特に細い反応容器の配管の内面ではＰｔ（白金）箔の被覆が困難であり、Ｐｔ（白金）の丸棒で製作せざるを得ず、非常に高価なものになっておりました。

V

After (改善後)

耐食性及び耐熱性の機能を発揮する表面処理として、今回のケースにおいては金や銀などの貴金属めっきを選定しました。

工法として厚めっきに優位な電気めっき法を採用している為、製品形状に適した電極が必要となります。大型機械加工+表面処理.COMの実績を活かし、緻密な電極設計及び製作をすることによって、膜厚均一性及び欠陥の無いめっき被覆の施工が可能となりました。

また、反応容器の形状及びサイズが同一であれば電極の再利用が出来る為、コストの削減にも貢献することが出来ます。

POINT(要約)

上記は、非常に高価な貴金属の箔などを反応容器内に施工しておりましたが、細い配管への内面には施工が非常に困難で全体を貴金属で製作しておりました。しかし、素材に直接電気めっきを施すことにより、安価でありながら求められる性能を満足させることが出来た一例でございます。